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應用領域	電子/電池	主要特性	兼容i、h、g線光刻膠

DMD無掩膜光刻機

DMD無掩膜光刻機SMART PRINT UV是一種基于DMD投影技術的無掩模光刻設備，可兼容多種電阻和基片。SMART PRINT UV可以生產任何微米分辨率的二維形狀，而不需要硬掩模。基于改進后的標準投影技術，投影出具有微米分辨率的圖像，無掩膜光刻機SmartPrint無需任何進一步步驟，就能直接從數字掩模光刻出您要的圖。無掩膜光刻機SmartPrint主要應用是微流體，生物技術和微電子等領域光刻表面微納圖案。

主要特性：

兼容i、h、g線光刻膠

SmartPrint-UV配備了385 nm LED源，以兼容標準i, h和g線光刻膠，如SU8或AZ®1500系列

SmartPrint UV microfluidic channels

適用于各種各樣的基材

我們的物鏡范圍經過精心選擇，具有較長的工作距離(高達3厘米)，使SP-UV成為一種非接觸式技術，因此兼容非標準基材(非平的，靈活的，厚的)。

可調直寫范圍和分辨率——用戶可獲得四種不同的直寫分辨率

直寫分辨率1.5um

兼容任何尺寸的樣品，最大5平方英寸

對齊方式直觀——反饋相機與第二束590nm準直光源疊加使用

體積小，性價比高

DMD無掩膜光刻機應用領域：

Quantum Device

Microfluidic Device 4

Microelectronics

光器件微流控微電子

DMD無掩膜光刻機指標參數：

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DMD無掩膜光刻機

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